在半导体制作上，国内厂商需求打破的不只是光刻机等中心设备，光刻胶也是重要的一环。南大光电日前宣告，该公司研制的高端ArF光刻机现已取得了国内某企业的认证，用于55nm工艺制作。

　　南大光电于5月31日晚间发布公告，控股子公司宁波南大光电自主研制的ArF光刻胶继2020年12月在一家存储芯片制作企业的50nm闪存渠道上经过认证后，近来又在逻辑芯片制作企业55nm技能节点的产品上取得了认证打破，标明公司光刻胶产品已具有55nm渠道后段金属布线层的工艺要求。

　　在光刻机市场上，国内自给率极低，欧美日等区域的厂商占有首要比例，JSR、信越化学等TOP5厂商占有全球87%的比例。

　　光刻胶有不同的技能类别，低端的中g线/i线%，KrF光刻胶自给率缺乏5%，而高端的ArF光刻胶彻底依靠进口，是国内半导体的卡脖子技能之一。

　　尽管南大光电的ArF光刻胶现在经过的是55nm工艺认证，但ArF光刻胶包括的工艺技能很广，可用于90nm-14nm乃至7nm技能节点制作工艺，广泛应用于高端芯片制作(如逻辑芯片、 存储芯片、AI芯片、5G芯片和云核算芯片等)。(作者：宪瑞)

　　在半导体制作上，国内厂商需求打破的不只是光刻机等中心设备，光刻胶也是重要的一环。南大光电日前宣告...

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